LED光學超純水設備

　　設備參數(shù)：
　　名稱：LED光學超純水設備
　　型號：zl-gx001
　　操作壓力：8-15kg（Mpa）
　　水電阻率：18MΩ.cm
　　出水量：5t/h
　　電壓:380（V）
　　水質(zhì):400us以下
　　功率:3KW以下（w）
　　電導率:10us以下
　　脫鹽率:99（%）
　　單機動力:0.5（/h）
　　簡述：　　
　　電子、光學純水設備、超純水設備、純水閉路系統(tǒng)和廢水處理及回用等一系列設備，并隨著微電子工業(yè)飛速發(fā)展，對水質(zhì)要求也越來越高，不斷革新工藝與設備，滿足微電子工業(yè)對水質(zhì)極限的挑戰(zhàn)。需求豐富的系統(tǒng)控制、系統(tǒng)設計和制造經(jīng)驗，可針對不同客戶的具體要求來設計。純水系統(tǒng)及控制部分，即可安裝在現(xiàn)場，也可使用PLC技術將信號送到中央控制室DCS負責現(xiàn)場監(jiān)控，河南中藍集團長期致力于純水處理技術的研究與開發(fā)，能為半導體工業(yè)、線路板工業(yè)與液晶顯示器工業(yè)等提供高質(zhì)量的水處理設備，從而降低廢品率，增加生產(chǎn)能力。
　　應用范圍：
　　1.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
　　2.超純材料和超純化學試劑
　　3.LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管
　　4.超純材料和超純化學試劑、光導纖維、光盤
　　5.實驗室和中試車間
　　6.汽車、家電表面拋光處理
　　7.其他高科技精微產(chǎn)品 電子、光學純水、超純水設備出水標準：
　　8.中國電子行業(yè)超純水國家標準GB/T11446.1-1997
　　9.實驗室用水國家標準GB6682-2008
　　10.美國半導體工業(yè)用純水指標
　　11.美國試驗級用水標準ASTM/NCCLS